માહિતી અને ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક્સના ક્ષેત્રોમાં ઝડપી વિકાસએ કેમિકલ મિકેનિકલ પોલિશિંગ (CMP) ટેક્નોલોજીના સતત અપડેટને પ્રોત્સાહન આપ્યું છે.સાધનો અને સામગ્રી ઉપરાંત, અતિ-ઉચ્ચ-ચોકસાઇવાળી સપાટીઓનું સંપાદન ઉચ્ચ-કાર્યક્ષમતા ઘર્ષક કણોની ડિઝાઇન અને ઔદ્યોગિક ઉત્પાદન તેમજ સંબંધિત પોલિશિંગ સ્લરીની તૈયારી પર વધુ નિર્ભર છે.અને સપાટીની પ્રક્રિયાની ચોકસાઈ અને કાર્યક્ષમતાની આવશ્યકતાઓમાં સતત સુધારણા સાથે, ઉચ્ચ કાર્યક્ષમતા પોલિશિંગ સામગ્રીની જરૂરિયાતો પણ વધુને વધુ વધી રહી છે.માઇક્રોઇલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો અને ચોકસાઇવાળા ઓપ્ટિકલ ઘટકોની સપાટીની ચોકસાઇ મશીનિંગમાં સીરિયમ ડાયોક્સાઇડનો વ્યાપકપણે ઉપયોગ થાય છે.
સીરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ પાવડર (VK-Ce01) પોલિશિંગ પાવડરમાં મજબૂત કટીંગ ક્ષમતા, ઉચ્ચ પોલિશિંગ કાર્યક્ષમતા, ઉચ્ચ પોલિશિંગ ચોકસાઈ, સારી પોલિશિંગ ગુણવત્તા, સ્વચ્છ ઓપરેટિંગ વાતાવરણ, ઓછું પ્રદૂષણ, લાંબી સેવા જીવન વગેરેના ફાયદા છે અને તેનો વ્યાપકપણે ઉપયોગ થાય છે. ઓપ્ટિકલ પ્રિસિઝન પોલિશિંગ અને CMP વગેરે ફીલ્ડ અત્યંત મહત્વપૂર્ણ સ્થાન ધરાવે છે.
સેરિયમ ઓક્સાઇડના મૂળભૂત ગુણધર્મો:
સીરીયા, જેને સીરીયમ ઓક્સાઇડ તરીકે પણ ઓળખવામાં આવે છે, તે સીરીયમનું ઓક્સાઇડ છે.આ સમયે, સેરિયમની સંયોજકતા +4 છે, અને રાસાયણિક સૂત્ર CeO2 છે.શુદ્ધ ઉત્પાદન સફેદ હેવી પાવડર અથવા ક્યુબિક ક્રિસ્ટલ છે, અને અશુદ્ધ ઉત્પાદન આછો પીળો અથવા તો ગુલાબીથી લાલ-ભૂરા રંગનો પાવડર છે (કારણ કે તેમાં લેન્થેનમ, પ્રેસોડીમિયમ, વગેરેની ટ્રેસ માત્રા હોય છે).ઓરડાના તાપમાને અને દબાણ પર, સેરિયા એ સેરિયમનું સ્થિર ઓક્સાઇડ છે.Cerium +3 સંયોજકતા Ce2O3 પણ બનાવી શકે છે, જે અસ્થિર છે અને O2 સાથે સ્થિર CeO2 બનાવશે.સીરિયમ ઓક્સાઇડ પાણી, આલ્કલી અને એસિડમાં સહેજ દ્રાવ્ય છે.ઘનતા 7.132 g/cm3 છે, ગલનબિંદુ 2600℃ છે, અને ઉત્કલન બિંદુ 3500℃ છે.
સેરિયમ ઓક્સાઇડની પોલિશિંગ મિકેનિઝમ
CeO2 કણોની કઠિનતા વધારે નથી.નીચે આપેલા કોષ્ટકમાં બતાવ્યા પ્રમાણે, સીરિયમ ઓક્સાઇડની કઠિનતા હીરા અને એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ કરતાં ઘણી ઓછી છે, અને ઝિર્કોનિયમ ઑક્સાઈડ અને સિલિકોન ઑક્સાઈડ કરતાં પણ ઓછી છે, જે ફેરિક ઑક્સાઈડની સમકક્ષ છે.આથી માત્ર યાંત્રિક દૃષ્ટિકોણથી ઓછી કઠિનતા ધરાવતા સીરિયા સાથે સિલિકોન ઓક્સાઈડ આધારિત સામગ્રી, જેમ કે સિલિકેટ ગ્લાસ, ક્વાર્ટઝ ગ્લાસ, વગેરેને ડિપોલિશ કરવું તકનીકી રીતે શક્ય નથી.જો કે, સિલીકોન ઓક્સાઇડ-આધારિત સામગ્રી અથવા તો સિલિકોન નાઇટ્રાઇડ સામગ્રીને પણ પોલિશ કરવા માટે સિરિયમ ઓક્સાઇડ હાલમાં પસંદગીનો પોલિશિંગ પાવડર છે.તે જોઈ શકાય છે કે સેરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગની યાંત્રિક અસરો ઉપરાંત અન્ય અસરો પણ છે.હીરાની કઠિનતા, જે સામાન્ય રીતે ઉપયોગમાં લેવાતી ગ્રાઇન્ડીંગ અને પોલિશિંગ સામગ્રી છે, સામાન્ય રીતે CeO2 જાળીમાં ઓક્સિજન ખાલી હોય છે, જે તેના ભૌતિક અને રાસાયણિક ગુણધર્મોને બદલે છે અને પોલિશિંગ ગુણધર્મો પર ચોક્કસ અસર કરે છે.સામાન્ય રીતે ઉપયોગમાં લેવાતા સેરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ પાઉડરમાં ચોક્કસ માત્રામાં અન્ય દુર્લભ પૃથ્વી ઓક્સાઇડ હોય છે.પ્રાસેઓડીમિયમ ઓક્સાઇડ (Pr6O11) પણ ચહેરા-કેન્દ્રિત ક્યુબિક જાળીનું માળખું ધરાવે છે, જે પોલિશ કરવા માટે યોગ્ય છે, જ્યારે અન્ય લેન્થેનાઇડ રેર અર્થ ઓક્સાઇડમાં પોલિશ કરવાની ક્ષમતા હોતી નથી.CeO2 ની સ્ફટિક રચના બદલ્યા વિના, તે ચોક્કસ શ્રેણીમાં તેની સાથે નક્કર ઉકેલ બનાવી શકે છે.ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા નેનો-સેરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ પાવડર (VK-Ce01) માટે, સેરિયમ ઓક્સાઇડ (VK-Ce01) ની શુદ્ધતા જેટલી વધારે છે, તેટલી વધુ પોલિશ કરવાની ક્ષમતા અને લાંબી સેવા જીવન, ખાસ કરીને હાર્ડ ગ્લાસ અને ક્વાર્ટઝ ઓપ્ટિકલ લેન્સ માટે ઘણા સમય.ચક્રીય પોલિશિંગ કરતી વખતે, ઉચ્ચ-શુદ્ધતા સેરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ પાવડર (VK-Ce01) નો ઉપયોગ કરવાની સલાહ આપવામાં આવે છે.
સેરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ પાવડરનો ઉપયોગ:
સીરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ પાવડર (VK-Ce01), મુખ્યત્વે કાચના ઉત્પાદનોને પોલિશ કરવા માટે વપરાય છે, તે મુખ્યત્વે નીચેના ક્ષેત્રોમાં વપરાય છે:
1. ચશ્મા, ગ્લાસ લેન્સ પોલિશિંગ;
2. ઓપ્ટિકલ લેન્સ, ઓપ્ટિકલ ગ્લાસ, લેન્સ, વગેરે;
3. મોબાઇલ ફોન સ્ક્રીન કાચ, ઘડિયાળની સપાટી (ઘડિયાળનો દરવાજો), વગેરે;
4. એલસીડી મોનિટર એલસીડી સ્ક્રીન તમામ પ્રકારના;
5. રાઇનસ્ટોન્સ, ગરમ હીરા (કાર્ડ, જીન્સ પર હીરા), લાઇટિંગ બોલ્સ (મોટા હોલમાં લક્ઝરી ઝુમ્મર);
6. ક્રિસ્ટલ હસ્તકલા;
7. જેડની આંશિક પોલિશિંગ
વર્તમાન સેરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ ડેરિવેટિવ્ઝ:
ઓપ્ટિકલ ગ્લાસના પોલિશિંગમાં નોંધપાત્ર સુધારો કરવા માટે સેરિયમ ઓક્સાઇડની સપાટીને એલ્યુમિનિયમથી ડોપ કરવામાં આવે છે.
અર્બનમાઇન્સ ટેકના ટેકનોલોજી સંશોધન અને વિકાસ વિભાગ.લિમિટેડ, એ પ્રસ્તાવ મૂક્યો કે પોલિશિંગ કણોનું સંયોજન અને સપાટીમાં ફેરફાર એ CMP પોલિશિંગની કાર્યક્ષમતા અને ચોકસાઈને સુધારવા માટેની મુખ્ય પદ્ધતિઓ અને અભિગમો છે.કારણ કે કણોના ગુણધર્મોને બહુ-ઘટક તત્વોના સંયોજન દ્વારા ટ્યુન કરી શકાય છે, અને સપાટીના ફેરફાર દ્વારા પોલિશિંગ સ્લરીની વિખેરવાની સ્થિરતા અને પોલિશિંગ કાર્યક્ષમતા સુધારી શકાય છે.TiO2 સાથે ડોપેડ CeO2 પાવડરની તૈયારી અને પોલિશિંગ કામગીરી 50% થી વધુ પોલિશિંગ કાર્યક્ષમતામાં સુધારો કરી શકે છે, અને તે જ સમયે, સપાટીની ખામીઓ પણ 80% દ્વારા ઘટાડી શકાય છે.CeO2 ZrO2 અને SiO2 2CeO2 સંયુક્ત ઓક્સાઇડની સિનર્જિસ્ટિક પોલિશિંગ અસર;તેથી, નવી પોલિશિંગ સામગ્રીના વિકાસ અને પોલિશિંગ મિકેનિઝમની ચર્ચા માટે ડોપેડ સેરિયા માઇક્રો-નેનો કોમ્પોઝિટ ઓક્સાઇડની તૈયારીની તકનીક ખૂબ જ મહત્વપૂર્ણ છે.ડોપિંગની માત્રા ઉપરાંત, સંશ્લેષિત કણોમાં ડોપન્ટની સ્થિતિ અને વિતરણ પણ તેમની સપાટીના ગુણધર્મો અને પોલિશિંગ કામગીરીને ખૂબ અસર કરે છે.
તેમાંથી, ક્લેડીંગ સ્ટ્રક્ચર સાથે પોલિશિંગ કણોનું સંશ્લેષણ વધુ આકર્ષક છે.તેથી, કૃત્રિમ પદ્ધતિઓ અને શરતોની પસંદગી પણ ખૂબ જ મહત્વપૂર્ણ છે, ખાસ કરીને તે પદ્ધતિઓ જે સરળ અને ખર્ચ-અસરકારક છે.મુખ્ય કાચા માલ તરીકે હાઇડ્રેટેડ સેરિયમ કાર્બોનેટનો ઉપયોગ કરીને, એલ્યુમિનિયમ-ડોપેડ સેરિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ કણો ભીના ઘન-તબક્કાની મિકેનકેમિકલ પદ્ધતિ દ્વારા સંશ્લેષણ કરવામાં આવ્યા હતા.યાંત્રિક બળની ક્રિયા હેઠળ, હાઇડ્રેટેડ સેરિયમ કાર્બોનેટના મોટા કણોને બારીક કણોમાં વિભાજીત કરી શકાય છે, જ્યારે એલ્યુમિનિયમ નાઈટ્રેટ એમોનિયા પાણી સાથે પ્રતિક્રિયા કરીને આકારહીન કોલોઇડલ કણો બનાવે છે.કોલોઇડલ કણો સીરિયમ કાર્બોનેટ કણો સાથે સરળતાથી જોડાયેલા હોય છે, અને સૂકવણી અને કેલ્સિનેશન પછી, એલ્યુમિનિયમ ડોપિંગ સીરિયમ ઓક્સાઇડની સપાટી પર મેળવી શકાય છે.આ પદ્ધતિનો ઉપયોગ વિવિધ માત્રામાં એલ્યુમિનિયમ ડોપિંગ સાથે સેરિયમ ઓક્સાઇડ કણોને સંશ્લેષણ કરવા માટે કરવામાં આવ્યો હતો, અને તેમની પોલિશિંગ કામગીરી લાક્ષણિકતા હતી.સેરિયમ ઓક્સાઇડ કણોની સપાટી પર યોગ્ય માત્રામાં એલ્યુમિનિયમ ઉમેરાયા પછી, સપાટીની સંભવિતતાનું નકારાત્મક મૂલ્ય વધશે, જે બદલામાં ઘર્ષક કણો વચ્ચેનું અંતર બનાવે છે.મજબૂત ઈલેક્ટ્રોસ્ટેટિક પ્રતિકૂળતા છે, જે ઘર્ષક સસ્પેન્શન સ્થિરતાના સુધારણાને પ્રોત્સાહન આપે છે.તે જ સમયે, કુલોમ્બ આકર્ષણ દ્વારા ઘર્ષક કણો અને સકારાત્મક ચાર્જ સોફ્ટ સ્તર વચ્ચેનું પરસ્પર શોષણ પણ મજબૂત થશે, જે પોલિશ્ડ કાચની સપાટી પર ઘર્ષક અને નરમ પડ વચ્ચેના પરસ્પર સંપર્ક માટે ફાયદાકારક છે, અને પ્રોત્સાહન આપે છે. પોલિશિંગ દરમાં સુધારો.